[問題] 曝光第二層問題

看板NEMS作者 (\宅宅/ \宅宅/)時間11年前 (2013/03/12 14:52), 編輯推噓3(3推 0噓 2→)
留言5則, 3人參與, 最新討論串1/1
各位版友前輩好 小弟我今天圖層第一層已經做好了 我要曝第二層時發現了一個很大的問題 因為我的光罩上有很多一樣的圖形 但其中一個圖形的alignment key 對準後 其他的圖形的就對不準...不知道有沒有前輩也遇過這種問題 是哪邊需要改進 麻煩請指導 感謝 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.117.165.40
推
03/13 03:36, , 1F
哪一台曝光機？找對準記號的時候調整過theta了嗎？
03/13 03:36, 1F
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03/13 16:25, , 2F
哪一台我不知道欸 中山奈米實驗室的 theta?
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03/13 16:25, , 3F
x照理說一個圖案準確 其他的應該會跟著對準阿 ~_~
03/13 16:25, 3F
推
03/14 17:45, , 4F
對準都是要調整x, y 跟 theta 不是嗎？
03/14 17:45, 4F
推
03/31 11:43, , 5F
大概的SCALE是多少? 會不會是PROCESS WINDOW造成的?
03/31 11:43, 5F
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