[新聞] ASML:獲台積電EUV量產機台訂單已回收
1.原文連結(必須檢附):
https://tw.stock.yahoo.com/news_content/url/d/a/141125/3/4t0gh.html
2.原文內容:
【時報記者沈培華台北報導】全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)勾勒2020年成
長願景,並宣布接獲台積電 (2330) EUV量產機台訂單,預計於2015年出貨。
ASML在台北時間昨天晚間8:00於英國倫敦舉行法人說明會,並於會中勾勒公司2020年策略
藍圖—成為營收100億歐元的公司,並讓EPS三倍成長。這是ASML近十年來第一次公開擘劃
公司成長策略,並肯定摩爾定律將持續演進。
同時,ASML宣布接獲台積電(TSMC)2台NXE:3350B EUV系統訂單,預計於2015年出貨,用於
量產。ASML也將協助台積電(TSMC)將今年已經出貨的2台NXE:3300B EUV系統升級到NXE:
3350B。
ASML指出,為了因應消費市場對於電子產品多功能、小尺寸、低耗電的要求越來越嚴苛,
半導體產業持續追求電晶體製程微縮,這不僅加速整個半導體產業的成長,也成為讓ASML
有信心達到2020年目標的主因。ASML相信在未來10年內,摩爾定律將會持續演進並推動產
業成長,而微影技術(lithography)將是主要的推手。
ASML針對主要產品策略方面;深紫外光(DUV)浸潤式系統將持續被用於各種先進製程中的多
層曝光;極紫外光(EUV)系統可讓晶片尺寸微縮且製程簡化,此將協助客戶提高邏輯、
DRAM和NAND晶片的製造成本效益,時程約落在2016年/2017年。全方位微影解決方案
(Holistic Lithography)將提供先進的校正功能,協助客戶減少微影製程中的各種誤差,
進而提高良率。
上周Moody’s(穆迪)在報告中肯定ASML的財務管理能力,以及EUV產品技術和出貨表現,
將ASML的評等從Baa2調高到Baa1,看好ASML的短中期發展。
3.心得/評論(必需填寫):
深紫外光(DUV)和極紫外光(EUV),哪個波長較短啊?
如果把機台升級到EUV可以簡化製程,那是不是就不用泡水、double patterning之類花招
百出了?
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股市上漲1%,投資人就會高估自己的智商1%。
股市下跌1%,投資人就會低估總統的智商1%。
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 111.246.59.116
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長知識惹,謝謝大大無私分享。
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中國半導體業可不可能藉由購買EUV機台,加快切入28奈米以下的速度啊?
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那中國半導體業會不會買了EUV機台後,跳過20~28,直接切入20奈米以下呢?
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我斗膽反駁一下:
工業不是手作麵包。
EUV波長夠短,繞射問題比較不嚴重。
所以比較不會有曝光顯影糊掉的問題。
所以不需要想那麼多辦法來解決曝光顯影的問題。
製程會變得比較簡單,所以如果有機台就能加快切入速度。
如果我想法有誤,請提出糾正^^
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感謝大大撥冗回覆我這個社會組的白癡。
所以還有很多"眉角"能夠保持領先。
那我猜「3年內還不用把中國業者放在眼裡」好了。
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所以除了注意中國業者買新機台的新聞,還要注意台G人材流動的新聞。
就算中國買了EUV,沒挖到台G人,他們自己摸索要摸很久。
※ 編輯: TanIsVaca (111.246.59.116), 11/25/2014 13:33:24
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